HORIBA數字式液體質量流量計LF/LV系列：控制多種液體流量的高性能方案

2025-08-23 17:55

隨著半導體技術朝向更高密度、更復雜結構不斷推進，液體材料在制程中的應用范圍持續擴大，特別是在300nm及以下的晶圓工藝中，對液體流量控制的精度和潔凈度提出了更高要求。HORIBA堀場基于多年流體測量技術積累，推出LF/LV系列數字式液體質量流量計，專為低沸點、高粘度等復雜液體場景設計，滿足現代制造業對高精度液體輸送與控制的實際需求。

多種工藝兼容的流量計平臺

LF-F與LV-F兩款型號均采用數字式控制架構，支持在冷卻測試方式下對液體流量進行精密測量與穩定控制。其內部采用超潔凈材質處理，適配潔凈室環境，符合RoHS環保標準，非常適合對工藝安全性和材料潔凈度要求極高的半導體與電子制造業。

  • LF-F型號：強調檢測功能，適合流量采集與過程監控；

  • LV-F型號：主打控制功能，適用于流量反饋閉環系統。

二者均支持超低流量等級下的穩定操作，適配小劑量液體注入、氣化等復雜制程需求。

精準應對低沸點與高粘度液體的挑戰

在傳統流量計難以精準控制的液體類型中，HORIBA LF/LV系列展現出顯著優勢：

  • 能夠精確檢測與控制高粘度液體，在傳統流量方案中難以實現的場景下依舊表現穩定；

  • 適用于低沸點液體，保障在較低溫條件下的氣化及注入效率；

  • 內部流體路徑經過特殊優化，有效降低對液體性質變化的敏感度。

這使得LF/LV系列在半導體、OLED、化學氣相沉積、電子化學品輸送等場景中得到廣泛應用。

抗壓設計與超潔凈結構，保障設備運行安全

流體系統的穩定運行離不開對極端條件的適應能力。該系列具備優良的機械強度與抗壓能力：

  • LF-F抗壓性能高達10MPa，適配高壓供液系統；

  • LV-F抗壓能力為1MPa，適用于中等壓力的穩定控制場景；

  • 所有型號均采用超潔凈通道與嚴選材質，防止顆粒污染與金屬析出。

這些特點大幅降低制程污染風險，同時延長設備維護周期，提升工藝良率。

應用于完整液體源汽化系統，適配自動化產線

HORIBA不僅提供單一流量計產品，更構建起完整的液體源汽化控制系統（LIQUID SYSTEM），包括：

  • 加熱蒸發系統：適用于熱敏感材料氣化；

  • 直接注入系統：簡化控制流程，適配閉環反饋；

  • 混合注入方式：多種液體同時輸送，提高制程效率。

LF/LV數字式液體質量流量計作為核心組件，保障流量調節的實時性與穩定性，配合自動供液裝置，可顯著減少人工操作，提升產線自動化水平。

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